Sensofar S mart 2可集成性測量頭：高效測量，便捷集成

我們(men) 很高興(xing) 與(yu) 您分享一些有關(guan) 我們(men) 的 S mart 2 係統 令人興(xing) 奮的消息！在本新聞中，您將了解到有關(guan) 新功能的信息，有一個(ge) 演示該係統在 CMP 過程的案例研究以及我們(men) 在中國的合作夥(huo) 伴成功完成的一次集成的消息。

打開新的探索途徑！ 

S mart 2變得更加靈活多樣，添加了三個(ge) 新幹涉物鏡，包括幹涉2.5X TI和5X TI，以及明場100X EPI鏡頭。有了這些新鏡頭，顯微鏡的功能得到了大大增強。

接近科技的極限

使用CSI的膜厚模式，用戶可以獲取約為(wei) 1.5微米厚的透明膜層的頂部、厚度和底部的地形數據。

CMP過程中PAD表麵監測的在線計量學

S mart 2可以將拋光墊的使用壽命延長20％，為(wei) 半導體(ti) 、硬盤和LED晶圓製造領域提供了一種具有成本效益的解決(jue) 方案。

可集成解決(jue) 方案在中國取得成功

我們(men) 很高興(xing) 與(yu) 您分享關(guan) 於(yu) 我們(men) 合作夥(huo) 伴蘇州黑河在中國成功集成的一些新聞和視頻。

我們(men) 的技術已經證明了其與(yu) 不同製造過程和係統的集成性，使它成為(wei) 先進的表麵計量學的一種靈活而強大的工具。

通過這種集成的成功，我們(men) 有信心會(hui) 有更多的集成商能夠利用我們(men) 的技術來增強他們(men) 的質量控製流程，實現更高效、更準確的結果。