白光幹涉儀光譜幹涉模式原理：多色光下的精密測量技術

　　白光幹涉儀作為光學測量領域的重要工具，其光譜幹涉模式基於光的幹涉原理與光譜分析技術，實現了對物體表麵形貌、薄膜厚度等參數的高精度測量。該模式利用白光作為光源，通過特殊的分光與幹涉機製，將光學測量精度提升至納米級。

　　一、光譜幹涉模式的基本原理

　　白光幹涉儀的光譜幹涉模式基於多色光幹涉特性。白光作為複合光源，包含連續光譜成分。當其經過擴束準直後，通過分光棱鏡被分成兩束相幹光：一束光經被測表麵反射，另一束光經參考鏡反射。兩束反射光最終匯聚並發生幹涉，在CCD相機感光麵形成明暗相間的幹涉條紋。由於白光光譜的連續性，幹涉條紋的亮度與光程差直接相關，且僅在零光程差附近形成清晰的彩色條紋。通過分析幹涉條紋的明暗度與位置變化，可解析出被測樣品的相對高度。

　　二、關鍵技術實現

　　1.零光程差定位：儀器通過垂直掃描被測樣品，記錄不同位置處的幹涉條紋變化。當光程差為零時，幹涉條紋的對比度達到峰值，係統據此確定樣品表麵的精確高度。

　　2.光譜分析：不同波長的光在薄膜上形成的幹涉條紋具有不同的間距和亮度分布。通過光譜儀分析幹涉光的光譜分布，可同時計算薄膜的厚度與折射率。

　　3.高精度相位測量：結合相移幹涉（PSI）技術，係統通過引入相移器改變幹涉光的相位，測量不同相位下的幹涉光強度，從而進一步提升測量精度。

　　三、應用優勢

　　該儀器的光譜幹涉模式具有非接觸式測量、高精度、寬測量範圍等優勢。其垂直掃描幹涉測量模式（VSI）可覆蓋從光滑到適度粗糙的表麵，提供納米級垂直分辨率；相移幹涉測量模式（PSI）則適用於連續高度變化較小的微納結構表麵，測量精度可達納米級別。結合VSI與PSI的高分辨測量模式（VXI）更實現了測量精度與範圍的雙重突破。

　　四、白光幹涉儀圖片展示

　　白光幹涉儀的光譜幹涉模式通過多色光幹涉與光譜分析技術，為微觀形貌測量提供了高效、精準的解決方案，在半導體製造、光學加工、微納材料研究等領域發揮著不可替代的作用。