全新 Linnik 幹涉物鏡

Sensofar 十分高興(xing) 地宣布推出可選模塊Linnik 幹涉物鏡。Linnik 物鏡設計用於(yu) 獲得位於(yu) 透明材料深處的表麵或很難接觸到的表麵的幹涉圖像。Linnik 物鏡的光機械設計包含兩(liang) 種相同的物鏡——一種是用於(yu) 參考表麵的物鏡，另一種是用於(yu) 需檢測表麵的物鏡。

結合兩(liang) 種明場物鏡提供了各種可能性。可以使用超長工作距離（SLWD）物鏡、高數值孔徑物鏡、水浸物鏡或具有傳(chuan) 統幹涉儀(yi) 不具備規格的任何物鏡組。物鏡組可以是兩(liang) 個(ge) 50x 放大倍率的SLWD，用於(yu) 測量PSI 傾(qing) 斜表麵，例如矽片，45 度斜率也不會(hui) 碰觸到物鏡。另外，還可以使用一組20x 放大倍率的EPI，用於(yu) 獲得由玻璃保護水中所含的蛋白質晶體(ti) 的圖像。

盡管Linnik 物鏡有很多優(you) 點，但它很難使用，且需要專(zhuan) 業(ye) 的對準技巧。通常會(hui) 通過幹涉濾光片使用長相幹性光源，如綠色或紅色LED。