蔡司 GeminiSEM係列場發射掃描電子顯微鏡

GeminiSEM係列：高分辨，不挑樣

長久以來，蔡司 GeminiSEM係列場發射掃描電子顯微鏡一直是高分辨力與(yu) 寬樣品適用性的代名詞。無論您從(cong) 事的研究方向是什麽(me) ，GeminiSEM都可以滿足您的需求。創新的電子光學係統和新型樣品腔室設計可讓您擁有更佳的圖像質量、易用性和靈活性。

蔡司 GeminiSEM係列場發射掃描電子顯微鏡兼具出色的成像和分析能力，不依靠浸沒式物鏡依然可以輕鬆實現1 kV以下的亞(ya) 納米級分辨力。以下內(nei) 容可以使您進一步了解Gemini電子光學係統的三大設計，探索蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM的應用潛能。

不導電礦物斷裂表麵的納米級特征

·       更靈活的成像工具 – 配備Gemini 1鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可以實現各種樣品的高分辨成像、分析和各種應用需求的拓展。

·       更強大的分析能力 - 配備Gemini 2鏡筒的蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460可應對更加複雜的分析工作。連續可調的大束流使您可以在成像和分析條件之間無縫切換。

·       更表征體(ti) 驗 - 蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560配有Gemini 3鏡筒及其新型電子光學引擎，讓它在各種工作條件下均可發揮該係列出色的分辨率特性。

（一）、產(chan) 品優(you) 勢

產(chan) 品係列：了解三種型號的所有詳情，選擇符合您應用需求的一款。

1、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360
蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 360，它是中心實驗室的得力助手，在科研和工業(ye) 領域中具有高通用性。

（1） 靈活的樣品適用性

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 360是中心實驗室的理想選擇，在科研和工業(ye) 中具有非常高的通用性。

·       產(chan) 品搭載Gemini 1鏡筒，在低電壓下依然具有高分辨成像能力，讓您輕鬆獲取樣品極表麵高分辨信息。

·       通過鏡筒內(nei) 二次電子和背散射電子同時成像，即使對於(yu) 電子束敏感樣品也可以獲取高分辨的表麵形貌和成分襯度。

·       在低真空下（NanoVP）拍攝不導電樣品時，依然可以通過鏡筒內(nei) Inlens探頭獲得優(you) 異襯度：無荷電高分辨。

兩(liang) 個(ge) 平行設計的鏡筒內(nei) 探測器為(wei) 樣品表征提供更全麵的信息

（2）出色的用戶體(ti) 驗

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 360可提供出色的用戶體(ti) 驗：該產(chan) 品具有廣闊的視野範圍和大體(ti) 積腔室，可以輕鬆檢測大尺寸樣品。

·       利用蔡司ZEN Connect軟件可在多種顯微鏡（例如光鏡、電鏡、X射線顯微鏡）之間進行無縫導航。

·       使用蔡司自動對焦和智能探測器等自動功能輕鬆采集清晰、銳利的圖像。

·       具有對稱的EDS端口和共麵的EDS / EBSD幾何設計，可高效執行成像和分析工作流程。

·       可有效延長係統正常運行時間，並讓您從(cong) 容地進行計劃內(nei) 維護。

多功能的樣品腔室滿足您不同應用需求的個(ge) 性化配置。

（3）優(you) 異的功能擴展性

·       可升級的係統可有效減少重複投資。因此，我們(men) 將場發射掃描電鏡GeminiSEM 360融入蔡司ZEN core軟件生態係統中。

·       ZEN軟件生態係統包括：ZEN Connect可關(guan) 聯多儀(yi) 器、多尺度數據；ZEN Intellesis是基於(yu) AI的自動分析工具； ZEN數據存儲(chu) 功能可以讓您在一個(ge) 數據中心節點上管理不同儀(yi) 器的實驗數據。

·       可訪問作為(wei) APEER社區成員的其他用戶創建的工作流和腳本，幫助您解決(jue) 難題。

·       .明確的升級路徑幫助您的設備更好地升級新的功能。

ZEN Connect將多種表征手段的數據進行整合，獲取樣品全麵信息。

2、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460

蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 460，具有更強大的分析能力，可進行高效分析和自動化的工作流程。

（1） 利用高分辨率和大束流

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 460專(zhuan) 為(wei) 有挑戰性的分析任務而設計，可進行高效分析和自動的工作流程。

·       Gemini 2鏡筒可快速執行高分辨成像和大束流分析：從(cong) 小束流-低電壓無縫切換到大束流-高電壓。

·       並行使用多個(ge) 探測器，提供樣品的數據。

·       多接口腔室設計可兼容更多探測器，以進行高效分析。

·       使用新的VP模式在大束流下采集EBSD譜圖可達4000點/秒的標定率。

·       對於(yu) 化學成分和晶體(ti) 取向的分析，具有兩(liang) 個(ge) 對稱的EDS端口和共麵的EDS/EBSD幾何學設計，可實現更快速度且無陰影的麵分析結果。

幫助您快速分析的同時兼顧大束流和高分辨。

（2） 定製化的自動化工作流程

·       強大的分析功能與(yu) 自動化流程相結合，讓您的分析工作更進一步。並且蔡司還可以通過Python腳本來定製您自己的自動化實驗。

·       修改實驗過程並根據您的要求定製結果輸出。

·       STEM三維成像功能：將自動傾(qing) 斜和旋轉與(yu) 蔡司特征點跟蹤相結合。將所有自動對齊的圖像發送到專(zhuan) 有的3D重構軟件後，生成具有納米級分辨率的3D形貌。

·       當您需要測試材料的加工特性時，蔡司將為(wei) 您提供自動化的原位加熱和拉伸實驗平台：它可以讓您自動觀察在加熱和拉伸條件下的材料，同時動態繪製應力-應變曲線。

多功能的樣品腔室滿足您不同應用需求的個(ge) 性化配置。

（3） 為(wei) 您帶來更多可能性

·       基於(yu) Gemini 2鏡筒設計，即使在低電壓時，也可以通過調高束流密度來提高分析能力。

·       能夠使係統與(yu) 各種配件相兼容。多功能型腔室不僅(jin) 可以配置分析附件，還可以配置原位台、冷凍傳(chuan) 輸係統和納米探針。

·       .因此，您可以隨時對儀(yi) 器進行配置更改和升級。

·       所有GeminiSEM均已融入蔡司ZEN core生態係統，您可以利用ZEN Connect、ZEN Intellesis和ZEN分析模塊，以獲取報告和GxP工作流程。

讓您的場發射掃描電鏡GeminiSEM 460成為(wei) 原位實驗室。

3、蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560

蔡司場發射掃描電鏡GeminiSEM 560：表征體(ti) 驗，讓您輕鬆對困難樣品進行1 kV以下的高分辨、無畸變成像。

（1） 表麵成像的新標準

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 560全麵提升你的電鏡體(ti) 驗，即使在1kV以下也可以很輕鬆地對電子束敏感的樣品進行無畸變高分辨的成像。

·       Gemini 3鏡筒搭載Nano-twin物鏡和新型電子光學引擎Smart Autopilot，可在1 kV以下對樣品進行1 nm以下分辨率的無漏磁成像-無需樣品台偏壓或單色器。

·       通過新的可變氣壓模式和檢測係統對不導電及氣壓敏感的樣品進行成像：將真空敏感樣本通過低真空樣品交換室進入電鏡腔室，可以維持樣品最本征的結構後快速成像。

·       利用帶雙EDS接口的新型大型腔室，輕鬆分析複雜樣品。通過優(you) 化的探測器幾何設計確保快速、無陰影的圖像。

在低電壓下表征不導電礦物顆粒的表麵：GeminiSEM 560，800 V, Inlens SE。

（2） 融合專(zhuan) 業(ye) 知識

·       新的電子光學引擎Smart Autopilot可全麵提升對高難度樣品的成像體(ti) 驗。

·       新係統的大視野功能可讓您輕鬆進行樣品導航。

·       Smart Autopilot可讓您節省時間，同時避免進行複雜的的光路對中：該引擎可自動調整光路，讓圖像從(cong) 一倍放大至五十萬(wan) 倍時始終保持光路對中聚焦良好的狀態。

·       Smart Autopilot包含蔡司自動對焦和自動光路對中功能，可在幾秒內(nei) 為(wei) 您提供清晰、銳利的圖像。

·       Python腳本能夠在自動化工作流程（例如3D STEM斷層成像）中集成軟件功能。

CeO2納米顆粒的3D STEM成像。GeminiSEM 560，aSTEM，明場像，30 kV。

（3） 體(ti) 驗出色的襯度

·       樣品拍攝中的成像條件，意味著您結合了參數組合來獲得的圖像：所以拍圖訣竅就是找到它。

·       Gemini鏡筒技術及其無漏磁成像技術和全新的Gemini 3鏡筒可使您找到這些成像條件，並從(cong) 樣品中發現新的信息。

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 560可以輕鬆拍攝磁疇襯度，它在樣品上的磁場小於(yu) 2 mT。

·       使用帶能量過濾器的Inlens背散射探測器進行能量分辨背散射電子成像，同時通過環形背散射探測器進行角分辨背散射電子成像。

·       通過ZEN Connect對所有數據進行整合，輕鬆生成報告。

成像條件：釹鐵硼磁鐵的磁疇襯度

（二）、洞悉產(chan) 品背後的科技----Gemini電子光學係統

1、 Gemini 1：經典傳(chuan) 承

場發射掃描電鏡可實現高分辨成像離不開其性能優(you) 異的電子光學鏡筒。Gemini可在任意樣品上展現出色的成像分辨力，尤其是在低加速電壓下仍可輕鬆實現高分辨成像。

Gemini鏡筒具有以下三個(ge) 主要特點：

·       Gemini物鏡的設計結合了靜電透鏡和磁透鏡，在提高其電子光學性能的同時將它們(men) 對樣品的影響降至更低。即使對具挑戰的樣品（例如磁性材料）也能進行高品質成像。

·       Gemini beam booster技術具有鏡筒內(nei) 的電子加減速功能，可確保獲得小束斑和高信噪比；

·       Gemini 鏡筒內(nei) 探測器的設計可實現信號的高效采集，實現二次電子（SE）和背散射電子（BSE）同時成像，有效縮短了成像時間。

為(wei) 您的應用帶來以下便利：

·       經校準後的SEM具有長期的穩定性，您在使用時隻需要簡易地設定各項係統參數，如束流和加速電壓等。

·       無漏磁的透鏡設計，可實現無畸變的高分辨成像。

·       鏡筒內(nei) 二次電子探測器具有高效的SE 1信號采集效率，給您呈現來自樣品極表麵的真實形貌圖像；

·       鏡筒內(nei) 背散射探測器設計理念使您在極低電壓下也可獲得真實的成分襯度圖像。

2、 Gemini 2：分析利器

要獲取樣品更加完整的信息，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方麵都具備優(you) 異的性能，同時能給用戶簡單易用的操作體(ti) 驗。

Gemini 2鏡筒可滿足您的以下需求：

·       場發射掃描電鏡GeminiSEM 460配有雙聚光鏡的Gemini 2鏡筒

·       在確保獲得出色的小束斑的同時，束流連續可調

·       可在小束流的高分辨成像與(yu) 大束流的分析模式之間進行無縫切換

·       調整拍攝參數後無需對電子束進行重新對中，節省您的時間和精力

·       操作靈活易用，大束流密度下的高分辨成像、小束流分析、大束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定

·       物鏡無漏磁設計可以讓您獲得無畸變的EBSD花樣，還可以在大視野範圍內(nei) 進行高分辨成像

·       傾(qing) 斜樣品時不影響電子光學性能。即使磁性樣品也能輕鬆成像

·       選擇適合樣品的消荷電模式：局部電荷中和，腔室內(nei) 可變氣壓或NanoVP

3、 Gemini 3：前沿

低電壓，高分辨是場發射掃描電鏡（FE-SEM）進化的方向。

（1） 這對於(yu) 以下樣品非常重要：

·       電子束敏感樣品

·       不導電材料

·       獲得真實的樣品極表麵信息，而不會(hui) 有來自樣品深層中的背景信號

Gemini 3光路設計針對低電壓和極低電壓下的分辨力以及襯度增強進行了優(you) 化，可確保在從(cong) 1 kV到30 kV的所有工作條件下獲得優(you) 異分辨力。Gemini 3鏡筒擁有兩(liang) 個(ge) 可協同工作的組件：Nano-twin透鏡和新型電子光學引擎Smart Autopilot。其他技術特征包括高分辨力模式和可選的樣品台減速模式。

（2） Nano-twin透鏡：

·       低電壓和超低電壓下的亞(ya) 納米分辨力成像，具有出色的信號檢測效率

·       低電壓下的像差是傳(chuan) 統Gemini物鏡的三分之一——施加在樣品上的磁場也是傳(chuan) 統Gemini物鏡的三分之一，約為(wei) 1 mT

·       優(you) 化的幾何設計以及靜電和磁場分布

·       低電壓成像條件下增強的鏡筒內(nei) 探測器的信號

這些特點為(wei) 1 kV以下的亞(ya) 納米成像提供了可能，而無需將樣品浸入電磁場中。

（3） Smart Autopilot
Smart Autopilot與(yu) Nano-twin透鏡結合使用，可為(wei) 您帶來以下優(you) 勢：

·       通過聚光鏡優(you) 化所有工作條件下的電子束會(hui) 聚角，可在任意電壓下獲得優(you) 異分辨率

·       通過新的大視野概覽模式實現樣品導航與(yu) 高分辨成像之間的無縫過渡